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第244章 流片数据出炉,光刻机主体成功[1 / 6]

第244章流片数据出炉,光刻机主体成功

宽敞明亮的机房内,首台逐光极紫外光刻机,被放置在中心位置,是全场毫无疑问的焦点。前方墙上的大屏幕处,最上面挂著个红色横幅。

写有一行标语。

「预祝全系统首次链路功能验证流片圆满成功」

而现场除总设计徐铭,贺鹏涛与丁顺安两位院士,和微电子装备项目科研人员外,还包括华天科技公司,科技部领导以及多位院士专家。今天全部聚集在这里,只为共同见证国家高端晶片制造的崛起。

其中很多人,都是项目某环节参与者。

最终的结果如何,对他们来说,称得上是与有荣焉。

心中都憋著一口气。

但像科学院院长余高远,则完全把自己,放在观众的席位上,基本全程保持沉默,很少参与发言。

把本次验证的主导权,悉数交给总设计师徐铭。

仅在心中希冀验证圆满成功。

当视线重新回到徐铭身上,他已经伸手接过,贺院递过来的逐光」最新检测数据,随即垂下目光神情认真的仔细查看。

从海外新思公司,与阿斯麦半导体设备,共同发出公告,宣布将在明年正式推出,全新的极紫外光刻机和配套EDA算法工具,到现在已过去三个多月时间。

然论他们如何都不会想到,在这短短三个多月内,首台逐光极紫外光刻机,已完成组装。

将采用全新技术的核心光源系统,和工作件物镜系统等零部件整合。

这几天在差不多二十四小时,不停地调试优化下,基本满足实际流片验证标准。

在如此情况下,由国家晶片制造产业专项领导小组表决,定下今天开展首次全系统链路功能验证流片实验。

「没问题。」徐铭重新把数据文件递还过去说。

贺鹏涛接下笑著说:「大家等这一天可是很久了,眼下终于要变成现实。」他讲完不知是想到了什么,脸上显露出来的情绪,相比刚才多出几分伤感。

早在十年前。

国家发布中长期科学和技术发展规划纲要,把极大规模集成电路制造技术及成套工艺,排在16个国家重大科技专项首位,真正重视起晶片制造技术,并给予持续和巨额的经费支持。

他便被任命为项目主要负责人,扎根光机所研发

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