光源、光学系统和双工件台的技术天堑，竟被他们一个接一个地成功攻克。
大厅里异常安静，只能听到通风系统低沉的嗡鸣。
工程师们穿着全套无尘洁净服，像手术室里的医生，在设备周围轻缓走动，进行着最后的检查。
“老板，各分系统自检完毕，真空机组随时可以启动。”
林南的声音略带沙哑，冲着陈延森汇报道。
陈延森点了点头道：“按计划执行，逐步建立光路真空。”
命令下达后，控制室内的气氛瞬间绷紧。
巨大的真空泵组开始工作，发出低沉的咆哮。
显示屏上，代表光路内部真空度的数字，呈现断崖式的下跌趋势：0.01Pa、0.0001Pa、0.000001Pa，向着高真空迈进。
所有人的心都提到了嗓子眼！
极致的真空环境是EUV光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。
不知过了多久！
汪象朝突然大声喊道：“真空度稳定在0.0000006帕斯卡！已达预设值！”
控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动，有人轻轻握了握拳。
第一步，成功了！
为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？
这是因为EUV光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。
在真空环境中，可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。
若处于非真空环境，EUV光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。
这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。
因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。
“启动光源预热，功率设定为最低档位。”
陈延森语气平静地宣布下一道指令。
令人紧张的时刻到来！
这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（MCDE-EUV光），即将被唤醒！
如果一切正常，它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，进而
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