开启宝箱！
【恭喜宿主获得HighNAEUV光刻机制造技术！】
【该光刻机可量产1nm制程工艺芯片，同时可向下兼容2nm及以上制程芯片，实验室可试产0.5nm工艺芯片！】
【技能正在传输中……】
我嘞个丈母娘！！！
光刻机啊？？
还是当今世界上最先进的HighNAEUV光刻机？？
苏云杉是材料与科学工程专业科班出身，自然懂得光刻机，光刻机是制造芯片的核心设备，主要用于在晶圆硅片上构建集成电路图案，相当于芯片的自动雕刻机。
按照光源波长，主要分为紫外光源（UV）光刻机、深紫外光源（DUV）光刻机、极紫外光源（EUV）光刻机。
而HighNAEUV光刻机又叫高数值孔径极紫外光刻机，支持2nm及以下更先进制程。
全球顶尖光刻机技术被荷国阿斯麦尔垄断，它是全球唯一能制造极紫外EUV光刻机的企业。
众所周知，从2019年开始，在米国的施压下，阿斯麦尔被禁止向我国出口EUV光刻机，陆陆续续，中高端的DUV光刻机也被禁售。
从那以后，我国的芯片发展处处受制于人，芯片产业链成本整体抬升，高端芯片依赖进口。
无奈之下，我国举国家之力研发光刻机，可惜成效甚微，研发多年，目前最先进的国产光刻机只能量产原生28nm芯片，工艺极限最多达到7nm。
魔都的龙芯国际，靠前些年进口的阿斯麦尔DUV光刻机，采用N+2工艺，能稳定量产7nm，主要为华伟旗下的手机、汽车等产品代工芯片。
N+2工艺指的是用普通DUV光刻机，靠多次重复曝光，做出等效苔集电7nm水准的芯片。
由于华伟曾经被制裁，无法进口高端芯片，导致只能采用自研+国内龙芯代工模式。
而大米、蔚小理等其他厂商，有的采用自研+苔集电代工模式，有的则全部进口。
拿皇甫集团来说，手机、PC、无人机、汽车等核心芯片，全靠自研，但研发不等于制造，研发=设计芯片图纸；制造=照着图纸生产芯片。
很遗憾，大陆因为光刻机技术受限，目前没有能力生产高端芯片，高度依赖龙国宝岛的苔集电。
苔集
本章未完，请点击下一页继续阅读！