上几岁，在光酸剂与树脂等分子设计，以及合成与作用机理等研究领域，位于国内领先地位。
对国家化学材料的发展，做出过重要贡献。
此次整合国内资源，成立国家集成电路制造研发创新中心，他所在化学研究所，也被纳入整合范围。
负责国产高端光刻胶的研发工作。
其中值得一提的是，徐铭擅长数学物理甚至信息学科，凭借自身实力和天赋，带领光刻机和晶片设计软体，快速实现技术叠代。
以至于经常能在网上看到，又有新的进展新闻。
这对他们光刻胶项目组团队来讲，无疑有著巨大的压力。
只能依靠自身。
尽最大努力，保证国产高端光刻胶的研发，做到不拖其他项目部门的后腿。
毕竟大家所在工作属于一个整体，任何人掉队都不行。
幸好他们的运气还算不错，在首台逐光极紫外光刻机组装完前夕，成功合成一种效果更好的光刻胶。
远超过当前国内的光刻胶水平。
而正当他思维快速运转，脑海中一直想著流片结果时，耳旁突然响起徐铭的熟悉声音。
「我们要看的，不是能不能做出图形，而是现实与预测的偏差，究竟有多少原子。」徐铭看向周启深院士，神情很是认真的接话，他对流片数据的要求，远比现场人要高。
如果说其他人的目标，是晶片制造技术，追赶上阿斯麦设备的产品。
那么他则是要超过。
况且在付出这么多努力和心血后，想达成这一点，也并非是什么不可能做到的事。
余高远对徐铭的了解，无疑要比现场任何人都深。
他在听到这句话，当即应和道：「有你的这句话，我对流片结果可是更加期待了，看来又要给我惊喜。」
众人之间的交流并未持续多久，很快就又被流片过程吸引。
目睹百分之百国产化，正在运行的逐光极紫外光刻机，团队士气越发高昂。
由于整个流片过程，包括光刻和刻蚀，以及沉积等数十道工序，且被严密监控，因此往往要历时数周时间才能结束。
面对这种情况，大家毅然留在微电子装备。
都想第一时间看到流片数据，也好见证国内晶片制造历时上，真正里程碑时刻。
很快来到月底。
高考结束分数陆续出炉
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