线工具。
这都需要尽快想办法解决。
不多时。
待众人走进会议室坐下，孙庆丰率先发言，详细介绍目前公司的产品以及对海外事件的应对。
「徐总师。」
「眼下我们的产品已处于国内领先，同时正在全力开发适配国产光刻机的EDA
工具算法。」
「未来计划走出国门，抢占国际市场。」
差不多小半个小时左右，徐铭认真把对方所讲的内容全部听进耳中，然随著
时间一分一秒过去，他的眉头却忍不住微皱起来。
至于最后的愿景，则更是选择了直接忽略。
没办法。
当前国产EDA还比较落后，海外市场更是被三大EDA公司完全垄断，现在就去想抢占市场份额的事，确实是显得太过早了一些。
思维运转到这里，他也不再卖关子，下秒直接指出核心问题并给出合适的建议。
「现有正在开发的EDA算法工具，可以先停止了。」
然他刚脱口讲出这句话，包括孙庆丰在内，会议室内不少人都面色一僵。
显然未料到，自己公司的产品，会被直接否决。
其中参与开发的核心工程师，更是忍不住开口，主动向徐铭表示质疑。
「徐总师。」
「我们的EDA算法工具，虽不如海外，但也能勉强解决当下的燃眉之急，如果这时候选择暂停开发的话————」
徐铭听到这话并不意外，他没有直接回答，而是微笑著继续往下解释。
「你们的EDA算法工具适配的是传统光刻机，很快我们就会制造出全新的极紫外光刻机，同时光刻工艺也会达到5纳米的水准。」
「所以必须要针对极紫外光源物理效应，开发新一代EDA算法工具。」
「甚至需争取在两年时间内完成。」
如果说刚才徐铭的话，是让大家诧异，那么此刻心中则只剩下震惊。
几乎瞬间就放大了瞳孔。
正如徐铭所讲的那样，公司的核心产品，确实是适配国产90纳米光刻机，在这种情况下突然升级到5纳米。
前后跨度著实不小。
关键还要在两年时间内完成，怎么看都似乎做不到。
毕竟EDA的开发，可是件很庞大的工程，特别是还要针对全新的物理效应。
于是下秒会议室便出现了争论的声音
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