推进到48纳米！
尼康、佳能、阿斯麦，也都是这么玩的，主要押注157纳米光刻机，指望靠它来突围。
至于阿斯麦，则留了一手，没把资源全砸给157纳米光刻机项目，而是给极紫外13.5纳米的光刻机EUV项目，留了一点经费，让它不至于解散。
当然，对于EUV项目，什么时候能够使用，大家都是在等著，但保守估计都得二十年，可整个半导体行业，不可能真等它二十年，所以需要替代品。
听到帕普肯的话，克雷格只是不置可否的点了点头，但谁都看的出来，他不看好SVG那边。因为同样的项目，尼康那边对于157纳米光刻机项目，投入更多，技术更先进，SVG真在这个项目上比的上尼康吗，怕是最后，吃那啥都赶不上热乎的！
桑德斯也有些悲观的说道，「就算157纳米光刻机，能研发成功，可最多把晶片推进到45纳米，45纳米晶片之后呢？」
会议室气氛一时间有些沉默，这是困扰整个半导体行业的麻烦，这些年争来争去，却都没什么太多的新怠。
「如果在镜头跟矽片之间，用水作为媒介，将雷射波长缩短到134纳米呢？」
这时候，一道声音在会议室内传出，却是林体坚开口道。